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當前位置:首頁(yè)技術(shù)文章摩方精密推進(jìn)超材料研發(fā)進(jìn)程

摩方精密推進(jìn)超材料研發(fā)進(jìn)程

更新時(shí)間:2024-05-27點(diǎn)擊次數:398


清華大學(xué)李曉雁教授課題組采用面投影微立體光刻設備(microArch® S240,精度:10 μm)制備了特征尺寸在幾十至幾百微米量級的多種桁架、平板和曲殼微米點(diǎn)陣材料。

該團隊通過(guò)原位壓縮力學(xué)測試研究并對比了多種不同結構的微米點(diǎn)陣材料的變形特點(diǎn)和力學(xué)性能。該研究表明,基于極小曲面的點(diǎn)陣材料能夠表現出比傳統的桁架點(diǎn)陣材料更為優(yōu)異的力學(xué)性能,同時(shí)其光滑、連續、無(wú)自相交區域的特點(diǎn)使得其在構筑結構功能一體化的微納米材料方面具有重要的應用前景。