產(chǎn)品中心
Product CenternanoArch S140 10μm精度微納3D打印系統是可以實(shí)現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹(shù)脂槽液面,在液面固化樹(shù)脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。
nanoArch P150 25μm高精密3D打印系統是科研級3D打印系統,擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚,具備優(yōu)良的光源穩定性,非常適合高校和研究機構用于科學(xué)研究及應用創(chuàng )新。
nanoArch P140 10μm精度微納3D打印系統是科研級3D打印系統,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實(shí)現超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機構用于科學(xué)研究及應用創(chuàng )新。
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術(shù),是目前行業(yè)極少能實(shí)現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。