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  • nanoArch S1302μm精度微納3D打印系統

    nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術(shù),是目前行業(yè)極少能實(shí)現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。

    更新時(shí)間:2024-09-18
    產(chǎn)品型號:nanoArch S130
    瀏覽量:3550
  • microArch® S230A摩方超高精度光固化3d打印機

    摩方超高精度光固化3d打印機microArch® S230 2μm高精度微納3D打印系統,基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)(PμSL)構建。全自動(dòng)水平調節系統:平臺自動(dòng)調平、膜面自動(dòng)調平、滾刀自動(dòng)調節三大系統,打印效率提升近50倍。

    更新時(shí)間:2024-09-18
    產(chǎn)品型號:microArch® S230A
    瀏覽量:600
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