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3D打印系統
2μm精度
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術(shù),是目前行業(yè)極少能實(shí)現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。
摩方超高精度光固化3d打印機microArch® S230 2μm高精度微納3D打印系統,基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)(PμSL)構建。全自動(dòng)水平調節系統:平臺自動(dòng)調平、膜面自動(dòng)調平、滾刀自動(dòng)調節三大系統,打印效率提升近50倍。